抽屉式UV紫外臭氧清洗机NE-UV01拥有工业级别的清洗效率和效果，适用小型基片清洗，如液晶面板，ITO，FTO，光学玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗产品的表面有机物，即进行表面改质，从而获得较好的亲水性。
产品原理：
UV紫外臭氧清洗机所选用的双波长紫外(TUV)灯，其实质是低压汞蒸汽放电灯，它可以发射短波紫外辐射，波长主要集中在253．7nm，同时还会发射少量波长为184．9nm的紫外线。这两种波长的紫外线对应的光子能量分别为472kJ/mol和647kJ/mol。一般情况下，紫外线的光子能量接近或者大于有机物分子的结合能，因此可以直接切断绝大多数分子的结合。
紫外臭氧清洗机主要是利用低压汞灯产生的紫外光与空气中的氧气发生反应产生臭氧，臭氧又可以进一步与紫外作用产生活性氧自由基，而活性氧自由基可以对材料表面进行清洁和改性处理，如提高表面张力，改善聚合物的润湿性。
具体反应为:UV照射材料表面时发射的短波紫外线会分解O2，形成具有强氧化能力的O3，聚合物表面的有机物和O3在UV照射下，会分解出一些极易挥发的气体(如H2O、CO2等)。
只有UVC段的紫外光与空气中的氧气发生作用时才会产生臭氧。一般波长为185nm的紫外光与空气中的氧气发生作用时产生臭氧的效率最高，臭氧会进一步与波长为254nm的紫外光发生作用产生活性氧自由基。紫外臭氧改性处理是波长为185nm与254nm的紫外光共同作用的结果。
产品特点：
材质：机身整体采用不锈钢材料，耐酸碱、防腐蚀，美观大方
结构：抽屉式样品台，取、放基板简单、方便
气路：预留进气接口，丰富设备的清洗种类
保护：抽屉开合与UV灯工作互锁，避免紫外线伤害
计时：按键定时器，数显倒计时，放便直观
操作：清洗工作进程可以任意时间手动终止
配件：可选臭氧中和器，避免臭氧伤害
排风：自带臭氧排风系统，12.5cm 直径出风口，配置风管及紧固件。
产品应用：
■ 在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■ 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs 芯片
■ 清洁焊剂，混合电路以及平板 LCD 显示器
■ 增强塑料表面的镀膜的粘附性
■ 基片终测后墨迹清楚
■ 平板显示器/液晶显示器
■ 去除光刻机台上的光刻胶残留物
■ 在电路板封装和打片之前清洗）
■ 增强表面亲水特性
|
清洗波段 |
185nm和254nm |
|
距离UV灯3-5mm平均光强 |
28~32mW/cm² |
|
灯管 |
双波低压汞灯 |
|
灯管功率 |
150W |
|
照射高度 |
20-100mm，可通过托盘四边螺母调节高度 |
|
托盘外型尺寸 |
250mm（W）×300mm（D）×260mm（H） |
|
外形尺寸 |
350W*400L*350H (mm) |
|
电源 |
220V，1.5A，300W |
广东省深圳市光明区华明城高新产业园A栋5楼 
133-8039-4543