等离子体清洗技术分类

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2023-07-31

等离子体是一种经过电离后的特殊气体状态，组成这种电离气体的主要成分有激发态的原子或分子、中性的原子或分子和离化的原子或分子。

等离子体清洗技术的基本原理主要是利用放电击穿气体时所产生的高能量活化等自由基（正离子、负离子、电子、光子、激发态的分子、基态分子等）直接作用于被清洗物质表面并与吸附化合物发生物理、化学作用而达到清洁表面的目的。

等离子体清洗技术分类

等离子体清洗技术可以根据等离子体的放电方式（CCP、ICP、ECR）分为CCP等离子体清洗技术、ICP等离子体清洗技术、ECR等离子体清洗技术。

CCP等离子体清洗技术原理
容性耦合放电（CCP）最初产生用于工业生产的薄膜沉积和等离子体刻蚀，其主要结构为两个平行极板（阳极板和阴极板），一平行极板加13.56MHz的射频电流，另一平行极板接地，射频能量主要通过两极板的电势差耦合到等离子体中，使其电离。但容性耦合的电离率很低，因此等离子体密度（电子密度）一般为10¹⁴-10¹⁶m^-3，电子温度在2-4eV之间。

ICP等离子体清洗技术原理
ICP又叫电感耦合等离子体，其利用感生电磁场（感性耦合）放电方式获得的等离子体密度往往比电势差（容性耦合）放电方式获得的等离子体密度要高，通常电子密度在10¹⁶m^-3-10¹⁸m^-3区间内，电子温度在2-4ev区间内。在感性耦合放电模式（H模式）中，射频能量主要通过通电线圈馈入到等离子体中，此时容性耦合放电方式的电势差不占主导，而通过通电线圈产生的感生电磁场激发等离子体。

ECR等离子体清洗技术原理
微波加热放电方式常见的是ECR放电（电子回旋共振放电）。其主要放电原理为射频能量以电磁波的方式耦合到等离子体中。例如ECR等离子体放电中，在磁场作用下，电磁波在等离子体中传播，最后电磁波能量被等离子体吸收，ECR所需要的磁场条件为几千高斯、所需的频率为GHz量级。波加热等离子体放电获得等离子体具有高密度，低耗能的特性。其获得的等离子体密度通常在10¹⁸m^-3-10²⁰m^-3范围内，电子温度在1-4eV范围中。

以上就是国产等离子清洗机厂家纳恩科技关于等离子体清洗技术分类的介绍，以上分类依据是按照等离子体的放电方式不同而分类的，根据等离子体产生的压力的不同，等离子体清洗技术还可分为低压等离子体清洗技术和常压等离子体清洗技术。