关于真空等离子清洗机（设备）RF射频功率大小的一些说明
文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2023-04-06
真空等离子清洗设备一般包括真空系统,射频（RF）电源系统,供气系统和清洗室,清洗室内安装有电极架,可以将射频电极,地极和悬置极按照一定的方式组合放置,以适应不同的清洗场合。清洗时先将器件装配好,参照它的清洗要求选择一种电极放置方式后放到清洗室中,抽真空至30pa左右,通入清洗气体后加射频电压后产生等离子体。影响清洗工艺的参数中,真空压力值由仓体本身焊接密封性等决定,选择合适的真空泵达到的真空压力值一般已成为定值,工艺气体选择、工艺气体流量大小、射频功率、清洗时间等都可以根据工艺要求在等离子清洗设备屏幕上很简便地调节数值,达到合理的匹配,获得较好的清洗效果。
一般的工业型真空等离子清洗设备的射频功率可调范围为0-1000W和0-600W两种，小型的等离子清洗机射频功率为0-200W，也有0-300W的。射频功率是真空等离子清洗设备的一个重要参数。射频功率的大小直接影响等离子体的浓度。等离子体的电子密度和电子能量密度受功率的影响很大，随功率的增加，电子密度和电子能量密度在总体上增加。
射频（RF）功率
射频等离子体技术是利用射频能量使得反应器中产生高频的交变电磁场，促使气体激发电离从而形成等离子体，射频功率的大小会影响等离子体的清洗效果，从而影响后续工艺的可靠性。加大等离子体射频功率是增加等离子的离子能量来加强清洗强度。离子能量是活性反应离子进行物理工作的能力。射频功率的设置主要与清洗时间达到动态平衡，一定范围内射频功率与清洗时间成反比例关系，增加射频功率可以适当降低处理时间，但会导致反应仓体内温度略有升高，所以有必要考虑清洗时间和射频功率这两个工艺参数。
综上所述，真空等离子清洗设备针对不同的材料所选择适用的功率范围也有所差别。对于多芯片组件,内部芯片及互连电路对清洗的要求很高，功率条件下参数控制敏感,容易造成损伤，一般选择适中的功率后再结合调整其它参数得出最为理想的清洗工艺。
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