等离子体清洗技术介绍

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-06-22

电子组装技术、精密机械制造的进一步发展,对清洗技术提出越来越高的要求。环境污染控制也使得湿法清洗的费用日益增加。等离子清洗工艺在现代清洗工艺中所占比例越来越大。

等离子体

存在于我们周围的物质有三种形态：固态、液态及气态，等离子体通常被称为物质的第四态。普通气体由电中性的分子或原子组成，电离气体是电子、离子、原子、分子或自由基粒子组成的集合体，其中的正电荷和负电荷总数在数值上总是相等的。基于此种等离子体构成，电离气体表现出以下两种性质：
1、电离气体是一种导电流体，而又能在与气体体积相比拟的宏观尺度内维持电中性；
2、电离气体带电粒子之间存在库仑力，由此导致带电粒子群的种种整体运动行为会受到磁场的影响和支配。

等离子体清洗技术

等离子体技术最重要的优势在于它的多功能性，它可用于多种材料的表面活化、清洗、刻蚀和沉积。

为什么用等离子体清洗?此工艺是直接把高能等离子体流施加到被清洗表面以达到等离子体清洗的目的。选择不同的气体种类和配比，可以满足很多等离子体清洗的要求。例如：用氧气等离子体可以使有机物沉积被氧化掉；用惰性的氩气等离子体可以使颗粒污染被机械地冲洗掉，用氢气等离子体可以消除金属表面氧化，等等。

应用等离子体清洗金属、陶瓷和塑料表面的有机物，大大增强了这些材料表面的附着力和键合力。随着对这门技术的研究的不断深入，其应用已越来越广泛。在电子领域，可用此技术做混合电路、PCB板、SMT、BGA、导线框和平板显示器的清洗和刻蚀；在医疗领域也要应用此种技术来改善各种导管、超细导管、过滤器、传感器等医疗设置的光滑度、沾湿性等关键指标。

在大规模集成电路和分立器件行业中，等离子体清洗一般应用于以下几个关键步骤中：
1、去胶，用氧的等离子体对硅片进行处理，去除光刻胶；
2、金属化前器件衬底的等离子体清洗；
3、混合电路粘片前的等离子体清洗；
4、键合前的等离子体清洗；
5、金属化陶瓷管封帽前的等离子体清洗。

等离子体清洗技术的可控性、可重复性，反映在设备使用上具有经济、环保、高效、高可靠性和易操作性等优点。