等离子清洗机清洗方式的选择及激发频率差异

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-05-23

等离子清洗作为一种新型清洁处理技术，除了具有超清洗功能外，该清洗技术易采用数控技术，自动化程度高，正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证，清洗零部件表面处理后性能持久稳定，保持时间长，并且具有无污染，无废水，符合环保要求。下面就让我们一起来了解下等离子清洗机清洗方式的选择和不同激发频率的差异：

等离子清洗机清洗方式的选择

以物理反应为主的等离子清洗，其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性:缺点就是对表面产生了很大的损伤，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗，氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。以化学反应为主的等离子清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气、氢气等离子清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生，产生二氧化碳，一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。

以物理反应和化学反应都起重要作用的等离子体清洗，两种反应清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应:其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。典型的等离子体清洗工艺是氩气和氧气按一定比例混合进行等离子清洗。

等离子清洗机激发频率差异分类

等离子态的密度和激发频率由如下关系:n_c=1.2425X10⁸V²,其中n_c为等离子态密度(cm^-3)，v为激发频率(Hz)。

常用的等离子体激发频率有三种:第一种是激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，第二种是13.56MHz的等离子体为射频等离子体，第三种是2.45GHz的等离子体为微波等离子体。超声等离子体发生为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。因此在实际应用中，根据清洗物基材类型的不同，可选择不同激发频率类型进行等离子清洗处理。

以上就是国产等离子清洗机厂家纳恩科技关于等离子清洗方式选择及激发频率差异的全部介绍，等离子清洗技术的研究应用还远没有发展到完全成熟的程度。相信，通过今后的努力和发展，等离子清洗技术将会发展得更加完善，进一步发挥其对社会发展的贡献。

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