射频等离子清洗原理

文章出处：本站 | 网站编辑：深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-04-27

等离子体定义

所谓等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成，是物质的第四态。人们普遍认为的物质有三态：固态、液态、气态。区分这3种状态是靠物质中所含能量的多少。给气态物质更多的能量，比如加热，将会形成等离子体。

射频等离子清洗原理

射频等离子清洗设备的原理是利用真空腔体产生真空负压，在真空状态下，工艺气体压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小。在5～10Pa气压范围内利用频率为13.56MHz、1000W功率（功率范围）的射频电源产生的高压交变电场将O2、Ar2、H2或CF4等工艺气体的分子之间化学键打断，激荡成具有高活性或高能量的离子团，该等离子团具有很高的动能，与有机污染物、微颗粒污染物或金属氧化层反应或碰撞形成易挥发性物质，然后通过真空泵产生的负压管道气体流将这些挥发性物质抽出，从而达到持续高精密清洁、活化器件表面的目的。

射频等离子清洗物理清洗和化学清洗兼具

等离子清洗用氧气会被激发成活性粒子，其主要祛除的是有机物如油脂等。这些活跃粒子与待清洗器件的杂质生成化学反应，变成易挥发的、极小的如水分子、二氧化碳分子等，然后被抽真空泵排出。氧气等离子清洗的致命缺点是清洗完的器件容易生成新的氧化物，变成二次污染。氩气等离子清洗是用氩分子快速冲撞待清洗器件表面，靠其速度快、能量高使杂质脱离器件表面。氩气属于惰性气体，在等离子清洗中属于物理反应，其优点在于器件可以保持表面物质的化学性能不被改变，没有二次污染产生。

等离子清洗技术是利用等离子体中各粒子的能量，通过化学或物理方式作用于物体表面，改善物体表面状态的工艺过程。不同等离子体电源会产生不同频率的等离子体，产生不同的作用效果。13.56MHz射频等离子体在物体表面既可以产生物理作用，又可以产生化学作用，射频等离子清洗技术是能够替代目前所采用的湿化学方法的一种真正绿色手段，也为工业清洗技术开辟了崭新的一页。