ITO阳极等离子处理
文章出处:等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2024-10-09
有机发光二极管(OLED)已经成为新一代的平板显示技术。它具有主动发光、驱动电压低、响应速度快,柔性可弯曲,超轻,超薄等优点。0LED器件一般为多层结构,其中包括阴极、阳极、电子传输层、空穴传输层和发光层。ITO同时具有透光性高、电阻率低等优点,因此大多数的0LED器件均使用ITO作为阳极。
随着具有优异性能的有机材料的开发,有机电致发光器件得到了迅速的发展,并已在显示器应用中实现工业化。然而,器件的效率和稳定性仍需要得到改善,这些都与电荷的传输能力和电极的界面修饰有关。载体的注入效率直接决定了器件的发光特性,因此通过电极修饰提高载体注入效率是一个研究热点。目前IT0阳极修饰主要有等离子体处理、UV紫外光处理、分子自组装以及引入缓冲层等方法。其中,氧等离子处理是最简单最易操作的方法,本文对0LED器件中IT0阳极修饰的等离子处理方法和原理进行了介绍。
等离子体处理包括氧等离子体处理、CF,H等离子体处理、氩等离子体处理、氮等离子体处理等。其中氧等离子体处理目前是最常用也是最简单有效的方法,其具体方法将气引入到电感耦合或者电容耦合产生的射频能量场中,通过氧气电离而导致等离子体的产生,提高IT0表面原子的含量。氧等离子体的组成相对复杂,包括未被离子化的氧原子、氧分子和电离产生的氧离子以及混合的复合基团,可以很容易地与其他原子反应形成新的价键或改变其他原子的键能。IT0的化学组成元素是氧、铟、锡,被氧等离子气包围的IT0,其表面的铟和锡会与氧离子形成新的价键改变原始键能,并改善IT0的表面功函数。另外,氧等离子体的活性基团还可以分解和除去IT0表面上的有机污染物等杂质。
Ar、N2等离子处理的原理是通过去除阳极ITO 表面所吸附的氧来达到清洁和提高的目的。
另一种比较常用的方法是CFH等离子体处理,该方法是将三氟甲烷气体引入低频能场中产生等离子体,进而在IT0的表面上进行聚合反应以形成氟取代的碳聚合物膜CF。形成的膜CF膜有着低电阻率和高离解能的特性,不仅能防止铟原子从ITO中扩散到活性有机层,还能够修饰IT0表面以提高空穴的注入效率。
本文由等离子清洗机厂家纳恩科技整理编辑,利用等离子处理ITO阳极具有显著的优点,成本低、无废弃物、无污染,并且有时可得到传统的物理和化学方法难以得到的处理效果。,从而达到清洁和提高的目的。