等离子清洗机在OLED显示屏行业中的应用

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2023-03-08

随着OLED显示屏行业的发展，对清洗工艺及设备的要求越来越严格，制造过程的清洗皆为精密清洗，为了达到良好的清洗效果，必须不断提高洁净技术。等离子清洗机可在高真空度状态下通过射频电源起辉产生等离子体，从而对基底表面同时进行物理和化学的双重清洗，使基底表面的物质变成气态粒子，经真空泵抽气排出，从而达到清洗的目的，它可以完成常规清洗手段所无法达到的任务，不仅可以清除有机污染物、油脂等，还能够改变ITO表面的功函数，改善材料表面的润湿能力，有利于传输层溶液的铺展与旋涂。

有机发光二极管（organic light emittin gdiode，OLED）是一种电流型的有机发光器件，通过载流子的注入和复合而发光的现象。在电场的作用下，阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动，分别向空穴传输层和电子传输层注入，迁移到发光层。当二者在发光层相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光。整个器件结构层中包括：空穴传输层（HTL）、发光层（EL）和电子传输层（ETL）。其制备工艺可以分为小分子OLED工艺技术和聚合物PLED工艺技术两大类。小分子OLED通常采用蒸镀技术进行制备；PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，近些年得到了非常快速的发展。

尽管OLED有诸多优点，但是在制备过程中仍需要克服一些加工问题，其中最为关键的即为清洗。例如，在玻璃基板加工前需要对其表面进行清洗，如果玻璃表面带有污染物，其表面自由能变小，从而导致蒸镀在上面的空穴传输层发生聚集，导致成膜不均；在整个光刻工艺过程中，清洗仍然是首个步骤，只有清洗干净后，才能保证光刻过程的顺利进行。在OLED制备整个过程中，会涉及多步清洗，随着屏幕要求越来越高，线路越来越细，对清洗的要求也越来越高，特别是细小颗粒（1μm）的控制，这意味着清洗技术在OLED制备过程中至关重要。

清洗的分类

清洗过程分类方法较多，针对OLED清洗常用的分类方法为湿法清洗和干法清洗。顾名思义，湿法清洗主要通过清洗设备配备去离子水、有机溶剂或者一些特定的清洗剂来完成基材表面净化的过程，该过程往往需要后续的干燥；干法清洗是指利用机械设备配备高压气流、臭氧、激光、等离子体、紫外线等方法来清洁基材表面的方法。

与湿法清洗不同，干法清洗一般需要利用加压或者抽真空的方式来达到清洗目的，清洗可以实现精准控制且清洗比较彻底，不会引入二次污染，受到越来越多的关注。

等离子清洗机

等离子清洗机是通过电源激发等离子体轰击基材表面，在轰击的过程利用物理冲击可以去除吸附在基材表面的微颗粒，同时可能造成基材表面的微刻蚀；因此可以用于基材的超精密清洗。等离子体在轰击基材表面的污染物时，还可以与污染物进行反应，形成容易挥发的物质，利用真空抽走，对基材表面的有机物残留具有较好的去除作用。等离子体清洗的最大特点是：大部分处理对象的基材类型，均可以进行处理。

在OLED器件制备过程中，阳极形成的ITO层表面极易吸附外来原子，使表面产生污染。另外，环境空气中还会存在大量水分，由于金属氧化物表面被切断的化学键为离子键或强极性键，易与极性很强的水分子结合，因此，ITO的表面非常容易被水气污染。

氧等离子不仅可以改变ITO表面的化学组成，还可以去除表面含有的碳，对OLED器件性能具有较好的提升作用；而氩等离子体虽然不能改变器件表面的化学组成，但是可以对表面清洁，同时去除吸附在器件表面的氧，提升器件性能。