单靶直流磁控溅射镀膜机

台式磁控溅射镀膜机可提供单阴极和双阴极配置。所有磁控管溅射配置均为向下溅射模式。阴极通常以夹紧方式使用标准的 2 英寸直径靶。阴极配备独立快门。紧凑型磁铁板使用稀土磁铁，可实现高沉积率。该装置配有 350 瓦/30 kHz 的脉冲直流电源。然而，阴极也与可以单独提供的射频电源兼容。可溅射Fe、Co等磁性材料的阴极，可根据需要专门提供。基板载物台可提供旋转、加热器和电隔离等设施，用于偏置目的。可应要求提供接受 3” 直径靶的阴极。

 

磁控溅射镀膜机产品特点：

应用广泛，体积小，操作方便。

提供旋转和距离调整的样品架(从目标)

用于金属和反应性溅射的脉冲直流电源

涡轮分子泵可提供快速清洁的无油高真空

用户友好的前面板彩色 LCD 基于触摸屏 HMI 控制

具有配方管理功能的基于 PLC 的过程自动化

镀膜仪拥有2个高精度质量流量计，客户如有其他要求，可定制多达4个质量流量计的气路，满足复杂气体环境建设的要求; 仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa。同时，也可购买其他类型的分子泵。 分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以在不关闭泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高您的工作效率。 本产品可配集成工控计算机对系统进行控制。计算机程序可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等大部分功能，可以进一步提高您的实验效率。
 

单靶磁控溅射镀膜机应用范围：

单靶直流磁控溅射镀膜机可用于制备单层铁电薄膜、导电膜、合金薄膜等。与同类设备相比，该单靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，而且具有以下优点：体积小，操作方便。是实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于固体电解质、OLED等实验室研究。